8月22日，校级海外名师，来自日本东北大学的寒川诚二教授在公司进行交流，为大家作了题为“Atomic layer defect-free top-down processing for future nano-devices”的报告。3044永利集团经理方志军，副经理史志才及相关方向的教师与研究生参加。报告由昌锡江副教授主持。
寒川教授在报告中介绍了等离子体刻蚀技术原理，以及目前半导体器件加工上，刻蚀方面的进展以及面临的挑战，并详细介绍了其实验室独有的中性束刻蚀技术在器件加工方面的应用。
寒川教授博士毕业于日本庆应义塾大学，曾在日本电气株式会社（NEC）工作。目前在东北大学（仙台）流体科学研究所任教授，是多个学术机构的独立研究员。寒川教授课题组主要从事等离子体物理、微纳电子加工及半导体器件材料的相关研究，其独有的中性粒子束刻蚀技术在国际上有相当的影响力。近年来发表论文200余篇，其中很多发表于Nature Communications，Carbon，Physical review，Applied Physics Letters，Nanotechnology等高水平期刊。另主编、联合编写著作24部，内容主要涉及半导体加工的物理、化学原理。
作者：昌锡江
